TFT-LCD 제조에는 세 가지 주요 공정이 있습니다.
1) 어레이 처리
2)조직과정
3) 모듈식 프로세스
드디어 제품이 보입니다.
1.어레이 처리
1) 표면이 매끄럽고 불순물이 없는 유리 조각은 TFT 유리 기판을 제조하는 주요 원료입니다. 그것을 만들기 전에 유리를 특수 세척액으로 깨끗하게 세척한 다음 탈수 및 건조해야 합니다.
2) 유리기판에 금속막을 증착하기 위해서는 먼저 진공챔버에 금속재료를 넣어야 한다. 금속의 특수 가스에 의해 플라즈마가 생성된 후 금속의 원자가 유리에 부딪혀 금속막 층이 형성됩니다.
3) 금속막을 도금한 후 비전도층과 반도체층을 코팅해야 합니다. 진공 챔버에서 먼저 유리판을 가열한 다음 고압 전기 분무기로 특수 가스를 분사하여 전자와 가스가 플라즈마를 생성하도록 합니다. 화학 반응 후 유리 위에 비전도성 층과 반도체 층이 형성됩니다.
4) 필름이 형성된 후 유리에 트랜지스터 패턴을 만들어야 합니다. 먼저 고감도의 감광액을 Yellow room에 분사한 다음 라이트 마스크로 덮어 노출을 위한 파란색과 보라색 빛을 조사하고 마지막으로 현상 영역으로 보내 현상액을 분사하도록 합니다. 조명 후 내광성을 제거할 뿐만 아니라 포토레지스트 층을 고정관념으로 만들기도 합니다.
5) 포토레지스트가 경화된 후, 습식 식각, 쓸모없는 막을 노출시키는 식각, 또는 플라즈마의 화학 반응에 의한 건식 식각을 위해 식각을 사용할 수 있다. 식각 후, 우리는 슬립으로 남아있는 포토레지스트를 제거할 수 있고, 마지막으로 트랜지스터에 필요한 회로 패턴을 생성할 수 있습니다.
6) 이용 가능한 박막 트랜지스터를 형성하기 위해서는 세정, 코팅, 포토레지스트, 노광, 현상, 에칭 및 포토레지스트 제거의 공정을 반복해야 한다. 일반적으로 TFT-LCD를 제조하기 위해서는 5~7회 반복해야 합니다.
