TFT LCD 화면의 특성 소개

Oct 21, 2017

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TFT 액체의 대부분의 화면의 특성은 무엇입니까? 주요 기능은 대면적, 고집적, 강력한 기능, 저비용, 유연한 프로세스 및 광범위한 응용 분야입니다. 아래에서는 TFT LCD 화면의 다양한 특성을 자세히 소개합니다.

(1) 대면적 : 1990년대 초반 1세대 대면적 유리기판(300mmx400mm) TFT-LCD 생산라인이 본격 가동되었다. 2000년 상반기까지 유리기판의 면적은 680mm×880mm로 확대되었다. 최근에는 950mmx1200mm의 유리기판도 가동될 예정이다.

(2) 고집적: 액정 투사에 사용되는 1.3인치 TFT 칩은 수백만 개의 픽셀을 포함하는 XGA의 해상도를 가지고 있습니다. 16.1인치 TFT 어레이는 SXGA(1280×1024) 해상도, 비정질실리콘의 막두께는 50nm에 불과하며, TABONGLASS와 SYSTEMONGLASS 기술, IC 집적, 장비 및 공급기술 요구사항, 어려움은 전통적인 것을 능가합니다. LSI.

(3) 강력한 기능: TFT는 액정의 라이트 밸브 특성을 개선하기 위한 매트릭스 어드레싱 회로로 처음 사용되었습니다. 고해상도 디스플레이의 경우 0~6V(대표값은 0.2~4V) 범위의 전압 조정을 통해 대상 요소의 정밀한 제어가 구현되어 LCD의 고품질 및 고감도 구현이 가능합니다. -해상도 표시.

(4) 저렴한 비용: 유리 기판과 플라스틱 기판은 대규모 반도체 집적 회로의 비용 문제를 근본적으로 해결하고 대규모 반도체 집적 회로의 적용을 위한 광범위한 응용 공간을 엽니다.

(5) Flexible process: sputtering, CVD(Chemical vapor deposition), MCVD(molecular chemical vapor deposition) 등과 같은 기존의 공정을 이용한 성막에 추가로 레이저 어닐링 기술도 적용되기 시작하여 비정질을 생성할 수 있다. 필름, 다결정 필름 및 단결정 필름을 제조할 수 있습니다. 그것은 실리콘 필름을 만들 수있을뿐만 아니라 다른 II-VI 그룹 및 III-V 그룹 반도체 박막을 만들 수 있습니다.

(6) 적용 분야가 넓다. TFT 기술을 기반으로 한 LCD 평판 디스플레이는 정보화 사회의 기둥 산업입니다. 이 기술은 빠르게 성장하는 박막 트랜지스터 유기 전계발광(TFT-OLED) 평판 디스플레이에도 적용될 수 있다. 성장.


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